搪玻璃容器玻璃層厚度測量

搪玻璃容器的搪玻璃層厚度一般為0.8～2.0mm，采用電磁性儀器無損測量磁性基體上的搪玻璃層厚度。其原理是用電磁法測量通過搪玻璃層與金屬基體磁路磁阻的變化而得到搪玻璃層的厚度。測量精度對薄的搪玻璃層是一個常數(shù)值，與厚度無關。對厚的搪玻璃層，其精度隨搪玻璃層厚度的增加有所降低。

磁性測厚儀受金屬基體磁性變化的影響，低碳鋼的磁性變化是輕微的，為了避免熱處理和冷加工因素的影響，最好采用未搪玻璃前的試件進行校正。同時，儀器制造廠會提供磁性測厚儀的臨界厚度值，超過這個厚度，測定值不會受到金屬基體厚度增加的影響。

搪玻璃層的表面粗糙度、曲率半徑、邊緣效應對測量值都有影響。如果在搪玻璃層粗糙表面上同一參考面積內(nèi)所測得的數(shù)值超過儀器固有的重現(xiàn)性，則測量次數(shù)應增加到5次。搪玻璃層的曲率半徑越小，影響越明顯。太靠近搪玻璃層邊緣或拐角處的測量數(shù)值是不可靠的，應距邊角＞15mm處進行測量。同時，搪玻璃層表面必須干凈，不能有附著物。為保證測量值的準確性，可根據(jù)具體條件對測厚儀進行校正。

另外，金屬基體機加工方向、金屬基體中的剩磁、測試現(xiàn)場的磁場、測頭壓力的大小、測頭方向與地球重力場方向相同或相反等都有影響，應采取措施以使測量值準確。